低水分グローブBOX付真空乾燥装置

各種電池・電極などの乾燥・ベーキング・脱ガス処理のための装置です。露点管理可能なグロー ブBOX により、乾燥・ベーキング処理後のワークへの水分吸着を防ぎます。

低水分グローブBOX付真空乾燥装置

仕様


槽内寸法 W400×D400×H400㎜~W800×D800×H800㎜
性  能 到達圧力 ×101Pa (油回転真空ポンプ)
×10‒4Pa (ターボ分子ポンプ)
加熱温度範囲
100℃~400℃
グローブBox内露点 - 65℃以下(約4ppm)
構  成 排 気 系 油回転真空ポンプ
油回転真空ポンプ+ターボ分子ポンプ
加 熱 系 外部壁面加熱(180℃以下)又は内部棚板加熱(500℃以下)
温度制御 温度調節計によるPID制御
棚段数 3~4
操作方式 全自動運転/手動運転