ブックタイトル佐藤真空真空装置2017

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概要

佐藤真空真空装置2017

真空成膜装置Vacuum Coater EquipmentCVD装置Chemical Vapor DepositionSFCV Series■グラフェンやカーボンナノチューブなど炭化水素系の材料研究向け、管状炉式の小型熱CVD装置です。■The SFCV series is a small tube furnace CVD system suitable for research of hydrocarbonmaterials like grapheme, carbon nanotube、etc.主仕様Major specifications型式SFCV-1001 SFCV-1003 SFCV-1501型式管状炉管状炉炉芯管炉芯管加熱温度加熱温度加熱域材質材内質径内常径用常Max用MaxSFCV-1001透明石英管SFCV-1003SFCV-1501アルミナ管1ゾーンφ24mm、φ50mm透明石英管φ24mm、φ50mm100~1000℃100~1000℃1150℃1150℃3ゾーンアルミナφ24mm管500~1400℃φ24mm500~1400℃1500℃1500℃1ゾーンヒータ加熱域容量1ゾーン1.0kW3ゾーン2.4kW1ゾーン1.2kW真空排気ヒータ油回転容真量空ポンプ1.0kW排気速度:100~150L/min2.4kW1.2kW真空排気ガス供給ガス供給油マスフローコントローラ回転真空ポンプガスマスフローコントローラ管型フローメータガス対応管ガス型フローメータ排気速度:100~150L/min流量:10~100sccm流量:10~100sccmH2,CH4,C2H6,C2H4,C2H2,C6H6,等ガス希釈エアエジェクタエア流量:15Nl/min真空計圧力制御大気復圧キャパシタンスマノメータ:0.133~1330Pa,100Pa~133kPaデジタル連成計:-100kPa~+100kPa制御温度制御圧力制御プログラム制御バルブON/OFF制御操作パネル各機器スイッチ、プログラム温調計、真空計表示器:温度、真空度、作動機器ON/OFF、警報、電源電源単相100V・30A 100V・50A 200V・20A外形寸法W×D×H1450×500×1200mm質量125kg 134kg 128kg34