ブックタイトル佐藤真空真空装置2017

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概要

佐藤真空真空装置2017

真空成膜装置Vacuum Coater Equipment真空蒸着装置Vacuum Evaporating EquipmentHSV Series■本シリーズは研究開発用、及び小ロット生産用の抵抗加熱式小型蒸着装置です。また、本シリーズの一部機種には電子ビーム(EB)の搭載も可能です。■The HSV series is resistance heating small evaporating equipment for R&D applicationsand for small lot production. The electron beam (EB) device can be installed on some modelsin this series.主仕様Major specifications型式ModelHSV-3-30G HSV-8-50 HSV-12-80到達圧力Ultimate pressure×10 ?3 Pa×10 ?4Pa基板加熱温度Heating temperature―Max300℃蒸発源(電極)Evaporation source2対(pairs)10V Max150A 2対(pairs)20V Max200Aバルブ操作Valve operation手動Manual自動Automatic手動Manual自動Automatic手動Manual真空槽Vacuum chamberφ300×H300mm透明ガラス(Glass)φ500×H500mm(水冷式)SUS304(water cooled)φ800×H700mm(水冷式)/前扉式SUS304(water cooled)/Front Door回転機構Revolution mechanism―公転機構Revolution自公転機構Revolution & Rotation内部機構Inner structureシャッター機構,抵抗加熱機構Shutter, Resistance heatingシャッター機構,加熱ヒーター,抵抗加熱機構Shutter, Heater, Resistance heating主ポンプMain pump油拡散3ins.Diffusion pump油拡散8ins.Diffusion pump油拡散12ins.又はクライオDiffusion or Cryopump補助ポンプRoughing pump150L/min500L/min1500L/min主バルブMain valve3ins.8ins.12ins.30■他に電子ビーム(EB)式や生産用大型装置など各種蒸着装置を取り揃えています。■Variety of deposition devices like the electron beam (EB) and larger ones for commercialproduction are available.33